蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結構特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶（純度均為99.9%）,在 CrMoAl 齒輪鋼和 Si（100）表面沉積 BCx 薄膜

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數:

試驗結論:

相同的沉積時(shí)間內, BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大, 硬度、彈性模量逐漸降低,微觀(guān)形貌的柱狀結構特征越來(lái)越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學(xué)性能, 當石墨靶電流為 2.4A 時(shí), BCx 薄膜的摩擦因數穩定在 0.2 左右, 且具有**佳的耐磨性能。

KRI 離子源的**特功能實(shí)現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現的.

KRI 離子源是**域公認的**導者, 已獲得許多專(zhuān)利. KRI 離子源已應用于許多已成為行業(yè)標準的過(guò)程中.

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