純 Ti 薄膜具有**異的力學(xué)性能、熱穩定性、生物相容性和良好的抗摩擦磨損性, 被廣泛應用于航空航天、醫療器械、光學(xué)和微電子器件等**域, 因此具有重要的研究?jì)r(jià)值.

西安某大學(xué)實(shí)驗室在納米純 Ti 薄膜的研究中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積納米純 Ti 薄膜, 制備出的純Ti薄膜可集膜層致密光滑、沉積速率快和平均晶粒尺寸小于20nm等**點(diǎn).

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數:

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(cháng)度的增量

該濺射沉積是在真空度為 9×10^-5Pa—3×10^-4Pa 的真空腔里, 通入氣流量為 70ml/min 的氬氣, 利用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 產(chǎn)生的氬離子轟擊靶材, 濺射沉積 Ti 膜層, 鍍膜持續時(shí)間30～90min; 完成鍍膜的樣品待冷卻后, 取出.

KRI 離子源的**特功能實(shí)現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現的.

因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質(zhì)譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國HVA 真空閥門(mén),  美國 inTEST 高低溫沖擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進(jìn)口知名品**的指定代理商.

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