国产人成精品香港三级在_KRI 考夫曼射頻離子源成功用于多靶磁控濺射鍍膜機價(jià)格及報價(jià)-機電商情網(wǎng)在線(xiàn)產(chǎn)品報價(jià)

詳細信息

品牌：
KRI
發(fā)貨期限：
自買(mǎi)家付款之日起 3 天內發(fā)貨
所在地：
上海

某 OEM 廠(chǎng)商為了提高鍍膜機鍍膜的品質(zhì), 其為客戶(hù)搭建的多靶磁控濺射鍍膜機的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數:

射頻離子源型號	RFICP380
Discharge 陽(yáng)極	射頻 RFICP
離子束流	>1500 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V
柵極直徑	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長(cháng)度	39 cm
直徑	59 cm
中和器	LFN 2000

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數:

離子源型號	eH3000	eH3000LO	eH3000MO
Cathode/Neutralizer	HC
電壓	50-250V	50-300V	50-250V
電流	20A	10A	15A
散射角度	>45
可充氣體	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
氣體流量	5-100sccm
高度	6.0“
直徑	9.7“
水冷	可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

渦輪分子泵 HiPace 2300 技術(shù)參數：

型號

接口 DN

抽速 l/s

壓縮比

**高啟動(dòng)壓強hPa

極限壓力

全轉速氣體流量hPa l/s

啟動(dòng)時(shí)間

重量

進(jìn)氣口

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最后更新：	2023-07-17 10:14
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