起訂量: | 面議 |
價(jià) 格: | 面議 |
品牌: | KRI |
供貨總量: | 面議 |
發(fā)貨期限: | 自買(mǎi)家付款之日起 3 天內發(fā)貨 |
所在地: | 上海 |
有效期至: | 長(cháng)期有效 |
最后更新: | 2023-05-04 12:00 |
關(guān)注人數: | 916 |
伯東企業(yè)(上海)有限公司 | |
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聯(lián)系人 | rachel(女士)
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會(huì )員 | [當前離線(xiàn)] [加為商友][發(fā)送信件] |
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地區 | 上海 |
地址 | 上海市外高橋保稅區希雅路33號17號樓B座3層,200131 |
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應用
上海伯東美國 KRi 考夫曼品** RF 射頻離子源, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 IBD 離子束沉積是其典型的應用.
KRi 離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用
通常安裝兩個(gè)離子源
主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源
一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性氣體
基板
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