超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12 torr, 超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要, 因為實(shí)驗通常要求在整個(gè)實(shí)驗過(guò)程中, 表面應保持無(wú)污染狀態(tài)和使用低能電子和離子的實(shí)驗技術(shù)的使用, 而不會(huì )受到氣相散射的過(guò)度干擾, 在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍可以提供高質(zhì)量的薄膜. 上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源可以在蒸鍍過(guò)程中實(shí)現預清潔和輔助鍍膜的作用.


如上圖是超高真空電子束蒸鍍設備, 針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構, 使用陶瓷培林旋轉, 并在內部做水冷循環(huán)來(lái)保護機構以確保長(cháng)時(shí)間運轉的穩定性.

上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(cháng)! 射頻源 RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著(zhù)力等.

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